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英特尔宣布1.8nm制程工艺提前半年量产,与台积电、三星展开正面竞争

2026-01-30 08:00 来源:英特尔官方财报电话会议记录,路透社、彭博社相关报道,The Verge分析文章 6 浏览 0 点赞

2026年1月29日,英特尔在季度财报电话会议上宣布,其备受瞩目的Intel 18A(1.8纳米级)制程工艺已提前半年进入风险量产阶段,首批客户产品预计于2026年下半年出货。此举标志着英特尔在“四年五个制程节点”路线图上取得关键胜利,不仅为其自身产品线带来性能与能效飞跃,更将直接挑战台积电和三星在先进制程代工领域的领导地位。CEO帕特·基辛格表示,已有数家主要客户签署了18A工艺的长期协议。

📰 事件概述

2026年1月29日,英特尔公司在其2025年第四季度财报电话会议上,由CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)正式宣布,其最先进的Intel 18A(1.8纳米等效)制程工艺已提前约六个月,从原计划的2026年底提前至2026年第二季度进入风险量产(Risk Production)阶段。首批采用该工艺的客户芯片设计预计将在2026年下半年完成流片并开始出货。这一里程碑是英特尔“IDM 2.0”战略和“四年五个节点”技术路线图的核心成果,旨在重夺半导体制造技术的领导权。

🔍 深度分析

Intel 18A工艺是英特尔技术路线图中的关键节点,融合了多项突破性技术:

  1. RibbonFET全环绕栅极(GAA)晶体管:这是英特尔首次在量产工艺中采用GAA架构,取代了沿用多年的FinFET。RibbonFET通过使用纳米片(nanosheet)通道,提供了更好的栅极控制和更低的漏电,能在更小的面积内实现更高的性能密度。
  2. PowerVia背面供电技术:这是另一项革命性创新。传统芯片的供电和信号线都在正面交织,导致互连拥塞和电压降问题。PowerVia将供电网络移至晶圆背面,实现了供电与信号传输的分离,能显著提升性能、降低功耗并简化布线。
  3. 先进的High-NA EUV光刻机应用:英特尔是全球首家大规模部署ASML新一代High-NA(高数值孔径)极紫外光刻机的公司。该设备能实现更高的分辨率和更精确的图案化,是制造18A及更先进节点复杂结构的关键。

此次提前量产,不仅证明了英特尔内部制造能力的快速恢复,也向外界展示了其代工服务(IFS)的竞争力。英特尔正试图从台积电和三星手中争夺高端芯片(如数据中心CPU、AI加速器、网络芯片等)的代工订单。

💭 业界反应

市场对英特尔此次宣布反应积极。财报发布后,英特尔股价在盘后交易中上涨超过8%。分析师普遍认为,这是英特尔技术执行力的有力证明。

  • Tirias Research首席分析师凯文·克雷威尔(Kevin Krewell) 表示:“提前量产是一个强烈的信号,表明英特尔的制造引擎已经重新校准并加速。18A的RibbonFET和PowerVia组合,至少在纸面上,提供了超越台积电N2和三星SF2的独特优势。关键在于良率和量产规模能否跟上。”
  • 台积电方面 则在近日的法说会上回应称,其N2(2纳米)工艺进展顺利,将于2025年下半年量产,并已获得苹果、英伟达等大客户的订单承诺,对自身技术领先地位充满信心。
  • 潜在客户,如高通、亚马逊(AWS Graviton系列)等,据传正在积极评估英特尔18A工艺,以作为供应链多元化和成本谈判的筹码。

🔮 未来展望

英特尔18A的成功与否,将深刻影响全球半导体制造格局。

  1. 三足鼎立竞争加剧:先进制程领域将从台积电“一家独大”演变为台积电、三星、英特尔“三强争霸”的局面,为芯片设计公司提供更多选择和议价能力。
  2. 供应链安全与地缘政治:美国、欧洲等地寻求芯片制造本土化的政府,可能会更积极地支持英特尔在本土的产能扩张。英特尔在亚利桑那州、俄亥俄州以及德国的晶圆厂将成为18A工艺的重要生产基地。
  3. 产品竞争力:英特尔自身的下一代客户端处理器(Arrow Lake, Lunar Lake)和数据中心处理器(Granite Rapids, Sierra Forest)将受益于18A工艺,有望在能效比上实现对AMD等竞争对手的反超。
  4. 投资机会:英特尔的代工服务(IFS)若成功,将打开一个巨大的增长市场。同时,围绕先进封装、材料(如High-NA EUV光刻胶、掩模版)和设备(如ASML、应用材料)的产业链公司也将持续受益于技术竞赛带来的资本开支增长。
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